新材料工程部安镇浩教授从1998年开始到今年进行了约23年的EUV曝光技术研究。最初是从很小的个人研究开始的。此后，2000年代初，在政府和企业的支持下，在国内唯一能获得极紫外线波长的浦项加速器研究所准备了设备，开始了研究。安教授从此时开始与学生、研究员们一起熬夜，努力追赶比其他国家落后20年的技术。

▲新材料工程部安镇浩教授选择走国内没有基础的EUV之路，迄今为止，他实现了世界上第一个应用于批量生产的目标。ⓒ安镇浩教授

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  安教授意识到， EUV掩膜与过去的的光掩膜完全不同。因此，他为了构成新的结构，还进行了相关材料的开发。从5年前开始，还持续进行着为了从污染物保护EUV掩膜的，由透明薄膜组成的EUV Pellicle的研究开发。

  现在已经到了没有半导体就什么都做不了的世界。我国的半导体产业是以内存芯片为中心成长的。但是，为了加强半导体产业的竞争力，制造内存和CPU以外的半导体元件的铸造产业很重要。安教授强调，EUV曝光技术就是在Foundry事业上具有竞争力的最重要的技术要素。

  安教授目前为了挑战EUV光刻胶的开发，正在与化学专业教授合作。另外，作为约20家企业参与的EUV-IUCC（产学合作中心：Industry-University Collaboration Center）中心长，企划和运营着多种学术活动。他表示了想帮助和宣传国内的研究开发的抱负。

▲安教授研究组因为国内不存在可评价EUV掩膜性能的设备，所以很苦恼。安教授组开发了用相机拍摄散射的EUV光后， 用电脑运算重新构成原来形象的RUV显微镜。ⓒ安镇浩教授

  安教授对对于半导体和EUV领域感兴趣的学生强调说：“EUV是现在理工科教的所有领域都需要融合的领域。”他建议，虽然忠实于本科课程，但学习像Python这样的程序设计语言会有帮助。

  从韩国国内首次开始研究开发EUV曝光技术，到2019年，成为世界上第一个在半导体元件批量生产上应用EUV曝光技术的壮举为止。安教授改变了半导体产业的大趋势。他说：“行动决定习惯，习惯决定性格，性格决定命运，把这句话铭记在心，不断努力是维持竞争力的秘诀。”

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